有限会社 新島真空工業研究所

真空蒸着を行なうための装置です。真空チャンバー内に抵抗加熱・EB・Kセル等の蒸発源と合わせて基板加熱機構・基板回転機構・膜厚測定器等を設けた装置です。主に大学の研究室向けに、実験・デバイス試作のための装置をご要望に応じて設計・製作しております。企業様向けにも生産用蒸着装置を製作しております。

EB蒸着装置 外観	EB蒸着装置 内部
小型のEB源を蒸発源に使用した、研究開発向けの非常にコンパクトな蒸着装置です。某国立大学に納入したものです。EB源の他に予備として抵抗加熱による蒸着も可能な仕様になっています。上蓋に基板加熱ヒーターを備え、最高800℃まで加熱可能です。膜厚モニタ用センサも備えています。